Szukasz padów polerskich, które pozwolą Ci osiągnąć WYSOKI POŁYSK i CZYSTOŚĆ, nie pozostawiając za sobą SWIRL?

Nie wygląda nigdzie indziej, naszPad Mshine Concrete Polishing (MCP) może rozwiązać Twój problem.Wielu osobom podoba się końcowy efekt polerowania żywicą, ale borykają się z problemem zawirowań pozostałych po żywicy, dlatego wybierają fenolową nakładkę polerską.A co, jeśli istnieje rozwiązanie, które może pomóc w rozwiązaniu problemu zawirowań i zapewnić lepszy połysk i przejrzystość.

Jak powstaje wir?

Zawirowania powstają zwykle na skutek dwóch czynników: zadrapań spowodowanych nieprawidłowymi gruboziarnistymi cząstkami oraz topnienia żywicy epoksydowej w wyniku ciepła tarcia pochodzącego z dużej prędkości obrotowej szlifowania.

Ashine samodzielnie opracował Generatina VI o formule został zaprojektowany wyłącznie do polerowania na sucho. Ma lepszą stabilność termiczną, która może utrzymać wyższą prędkość obrotową podczas procesu polerowania bez spalania żywicy i pozostawiania zawirowań po szlifowaniu.Co więcej, opatentowana przez Ashine konstrukcja kropli deszczu zapewnia podkładce MCP dodatkową elastyczność, aby dopasować się do nierównych warunków, aby uzyskać szybszy połysk i większą siłę ścinającą.

Demonstracja przypadku MCP

Poniższy przypadek przedstawia wydajność padów MCP o ziarnistości od 400 do 800.

Powierzchnia jest dobrze przygotowana po polerowaniu na mokro papierem 200. Nie widać połyskugołymi oczami.

Połysk zaczyna się nakładać po 400 s MCP z poprawą w przybliżeniu 17GU.

Odbicia można zobaczyć gołym okiem pod kątem 60°.

W miarę kontynuacji polerowania padem MCP 800s powierzchnia zaczęła zyskiwać większy połysk z wyraźniejszymi refleksami.

Zarówno połysk, jak i przejrzystość uległy znacznej poprawie, osiągając ponad 70 wyrazistości i 50 GU.

Oto porównanie przed i po użyciu podkładki MCP o ziarnistości 400-800.Zarówno przejrzystość, jak i połysk są znacznie zwiększone przy wartości zamglenia poniżej 10, co oznacza, że ​​nie stosuje się żadnych uszczelniaczy żywicznych ani innych chemicznych.